最主要之作用在于控制产品(如硅芯片等)所接触的大气的洁净度以及温湿度，使产品能在一个良好之情况空间中生产、制造，此空间我们称之为净化车间。凭据国际老例，无尘净化级别主要是凭据每立方米空气中粒子直径大于划分标准的粒子数量来划定。也就是说所谓无尘并非100%没有一点灰尘，而是控制在一个很是微量的单位上。虽然这个标准中切合灰尘标准的颗粒相关于我们常见的灰尘已经是小的微乎其微，可是关于光学结构而言，哪怕是一点点的灰尘都会爆发很是大的负面影响，所以在光学结构产品的生产上，净化车间无尘是一定的要求。
　　净化车间每立方米将小于0.3微米粒径的微尘数量控制在3500个以下，就抵达了国际无尘标准的A级。目前净化车间应用在芯片级生产加工的无尘标准关于灰尘的要求高于A级，这样的高标主要被应用在一些品级较高芯片生产上。5μm及以下的微尘数量被严格控制在每立方米1000个以内，这也就是业内俗称的1K级别。